| 标题 |
 Depth profiling chemical changes in chemically amplified resists for EUV lithography 相关领域
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| DOI |
10.1117/1.jmm.25.3.034603
doi
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| 其它 |
期刊：Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology 作者：Daniel F. Sunday; Gurpreet Singh; Florian Gstrein 出版日期：2026-08-13 |
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