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 Using block-copolymer nanolithography as a tool to sensitively evaluate variation in chemical dry etching rates of semiconductor materials with sub-5 nm resolution 使用嵌段共聚物纳米光刻作为工具敏感地评估分辨率低于5 nm的半导体材料的化学干蚀刻速率的变化
相关领域
材料科学
纳米光刻
干法蚀刻
纳米结构
蚀刻（微加工）
兴奋剂
半导体
纳米技术
硅
各向同性腐蚀
多孔性
制作
纳米
光电子学
反应离子刻蚀
复合材料
病理
医学
替代医学
图层（电子）
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| 其它 |
期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者：Elizabeth Michiko Ashley; Peter Duda; Paul F. Nealey 出版日期：2021-10-14 |
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