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 Revealing the controlling mechanisms of atomic layer etching for high-k dielectrics in conventional inductively coupled plasma etching tool 揭示常规电感耦合等离子体刻蚀工具中高k电介质原子层刻蚀的控制机制
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Vitaly Kuzmenko; Alexander Melnikov; А.Г. Исаев; Andrey V. Miakonkikh 出版日期：2024-07-15 |
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