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  Investigation into SiO2 Etching Characteristics Using Fluorocarbon Capacitively Coupled Plasmas: Etching with Radical/Ion Flux-Controlled 相关领域
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期刊：Nanomaterials 作者：Wonnyoung Jeong; Youngseok Lee; Chul‐Hee Cho; Inho Seong; S. J. You 出版日期：2022-12-15 |
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