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 Defectivity control of aluminum chemical mechanical planarization in replacement metal gate process of MOSFET 相关领域
化学机械平面化
金属浇口
材料科学
抛光
铝
刮擦
金属
冶金
MOSFET
光电子学
复合材料
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工程类
晶体管
电气工程
电压
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期刊：Journal of Semiconductors 作者：Jin Zhang; Yuling Liu; Chenqi Yan; Yangang He; Baohong Gao 出版日期：2016-04-01 |
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