| 标题 |
 INFLUENCE OF CURRENT DENSITY ON THE STRUCTURE OF AMORPHOUS SILICON SUBOXIDE THIN FILMS UNDER ELECTRON-BEAM ANNEALING 电子束退火下电流密度对非晶氧化硅薄膜结构的影响
相关领域
亚氧化物
材料科学
无定形固体
纳米晶硅
硅
退火（玻璃）
非晶硅
薄膜
晶体硅
光电子学
结晶学
纳米技术
复合材料
化学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Applied Mechanics and Technical Physics 作者：Е. А. Баранов; V. A. Nepomnyashchikh; В. О. Константинов; В. Г. Щукин; I. E. Merkulova; et al 出版日期：2023-10-01 |
| 求助人 |
FashionBoy
在
2025-08-29 20:47:51 发布，悬赏 10 积分
|
| 下载 | 暂无链接，等待应助者上传 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
对不起，您需要登录才可以上传文件。
进入登录页面
科研通AI2.0
机器人 未找到该文献，机器人已退出，请等待人工下载
20:47:53 未找到该文献，机器人已退出，请等待人工下载20:47:51 科研通AI机器人（广州）收到请求，开始寻找文献20:47:51 已向机器人发送请求
FashionBoy
Lv12 求助人 发起了本次求助
PDF的下载单位、IP信息已删除
WenyuChen
xjcy
热心市民小红花
不想干活
Dean
Meyako
xzy998
小青椒
不配.
核桃
不安青牛
爱静静
子车茗
8R60d8
七月流火
彳亍1117
聪慧小霜
null
期待未来的自己
顺利的琳
皖公网安备34019202002308
