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 INFLUENCE OF CURRENT DENSITY ON THE STRUCTURE OF AMORPHOUS SILICON SUBOXIDE THIN FILMS UNDER ELECTRON-BEAM ANNEALING 电子束退火下电流密度对非晶氧化硅薄膜结构的影响
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期刊：Journal of Applied Mechanics and Technical Physics 作者：Е. А. Баранов; V. A. Nepomnyashchikh; В. О. Константинов; В. Г. Щукин; I. E. Merkulova; et al 出版日期：2023-10-01 |
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