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 Decoupling Diameter and Pitch in Silicon Nanowire Arrays Made by Metal‐Assisted Chemical Etching 金属辅助化学蚀刻制成的硅纳米线阵列中的去耦合直径和节距
相关领域
材料科学
硅
各向同性腐蚀
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期刊：Advanced Functional Materials 作者：Junghoon Yeom; Daniel Ratchford; Christopher R. Field; Todd Brintlinger; Pehr E. Pehrsson 出版日期：2013-07-24 |
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