Optical, structural and composition properties of silicon nitride films deposited by reactive radio-frequency sputtering, low pressure and plasma-enhanced chemical vapor deposition

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标题	Optical, structural and composition properties of silicon nitride films deposited by reactive radio-frequency sputtering, low pressure and plasma-enhanced chemical vapor deposition
网址	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2022.139568
DOI	10.1016/j.tsf.2022.139568 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Leonid Yu. Beliaev; Evgeniy Shkondin; Andrei V. Lavrinenko; Osamu Takayama 出版日期：2022-11-05
求助人	JGCATZ 在 2026-09-14 20:54:15 发布自天津，悬赏 10 积分
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