| 标题 |
[求助补充材料]
 Preparation of photosensitive polyimides (PSPIs) and their feasible evaluation for lithographic insulation patterns (LIPs) of integrated circuits (ICs) without negative photoresists 相关领域
材料科学
光引发剂
聚酰亚胺
玻璃化转变
单体
光刻胶
复合材料
高分子化学
聚合物
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Meng‐Hsin Chen; Chiu‐Chun Lai; Hsin‐Lung Chen; Yi‐Hung Lin; Kuan‐Yeh Huang; et al 出版日期：2018-08-14 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Kao
aajhajkahna
秋风
无极微光
null
Criminology34
GingerF
印第安老斑鸠
FIN
初景
cdercder
乐空思
Nole
XX
DW
St
年轻的煎饼
七月流火
曾恒敬
kekekekekeke
皖公网安备34019202002308
