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标题
HfO2/SiO2 anti-reflection films for UV lasers via plasma-enhanced atomic layer deposition
网址
DOI
10.1016/j.jallcom.2020.157875 doi
其它 期刊:Journal of Alloys and Compounds
作者:Chaoyi Yin; Meiping Zhu; Tingting Zeng; Chen Song; Yingjie Chai; et al
出版日期:2020-11-19
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