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Topology-Directed Siloxane-Based Thiol–Ene Photoresists for Ultraviolet Nanoimprint Lithography |
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期刊:ACS Applied Materials & Interfaces 作者:Wei-Gui Kang; Hao-Tian Xiao; J F Sun; Hao-Chen Guo; Xiang-Bin Zou; et al 出版日期:2026-07-03 |
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(2025-6-4)