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标题
Doping of two-dimensional MoS2 by high energy ion implantation
高能离子注入掺杂二维MoS2
相关领域
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网址
https://doi.org/10.1088/1361-6641/aa8ed3
DOI
10.1088/1361-6641/aa8ed3 doi
其它 期刊：Semiconductor Science and Technology
作者：Kang Xu; Yuda Zhao; Ziyuan Lin; Yan Long; Yi Wang; et al
出版日期：2017-09-25
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生动元蝶 在 2025-10-02 09:32:41 发布自湖南，悬赏 10 积分
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