Study of the cross contamination effect on post CMP in situ cleaning process

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标题	Study of the cross contamination effect on post CMP in situ cleaning process 相关领域刷子洗涤器污染薄脆饼化学机械平面化污染控制半导体器件制造材料科学湿法清洗粒子（生态学）抛光工艺工程纳米技术化学废物管理复合材料工程类地质学有机化学海洋学生物生态学
网址	https://doi.org/10.1016/j.mee.2015.03.033
DOI	10.1016/j.mee.2015.03.033 doi
其它	期刊：Microelectronic Engineering 作者：Hong Jin Kim; Girish Bohra; Hyucksoo Yang; Si-Gyung Ahn; Liqiao Qin; et al 出版日期：2015-03-01
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