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Deposition of Mesoporous Silicon Dioxide Films Using Microwave PECVD
相关领域
材料科学 六甲基二硅氧烷 介孔材料 复合材料 薄膜 等离子体增强化学气相沉积 二氧化硅 纳米技术 光电子学 等离子体 生物化学 量子力学 物理 催化作用 化学
网址
DOI
10.3390/ma18133205 doi
其它 期刊:Materials
作者:Martin Laux; Ralf Dreher; Rudolf Emmerich; Frank Henning
出版日期:2025-07-07
求助人
Fighter 在 2026-01-05 15:31:44 发布自辽宁,悬赏 10 积分
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