| 标题 |
Atomic Layer Growth of Rutile TiO2 Films with Ultrahigh Dielectric Constants via Crystal Orientation Engineering 晶体取向工程原子层生长超高介电常数金红石型TiO2薄膜
相关领域
材料科学
金红石
电介质
原子层沉积
图层(电子)
Crystal(编程语言)
方向(向量空间)
光电子学
结晶学
纳米技术
化学工程
工程类
化学
程序设计语言
计算机科学
数学
几何学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces 作者:Taikyu Kim; Jihoon Jeon; Seung Ho Ryu; Hong Keun Chung; Myoungsu Jang; et al 出版日期:2024-06-19 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)