Chemical Vapor Deposition of Silicon Carbide Epitaxial Films and Their Defect Characterization

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标题	Chemical Vapor Deposition of Silicon Carbide Epitaxial Films and Their Defect Characterization 化学气相沉积碳化硅外延膜及其缺陷表征相关领域外延化学气相沉积材料科学硅碳化硅位错增长率氢体积流量分析化学（期刊）光电子学复合材料化学热力学图层（电子）物理几何学数学有机化学色谱法
网址	https://doi.org/10.1007/s11664-006-0084-2
DOI	10.1007/s11664-006-0084-2 doi
其它	期刊：Journal of Electronic Materials 作者：G. Dhanaraj; Yi Chen; Hui Chen; Dang Cai; Hui Zhang; et al 出版日期：2007-04-02
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