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 Tin‐Oxo Nanocluster Extreme UV Photoresists Equipped with Chemical Features for Atmospheric Stability and High EUV Sensitivity 相关领域
极紫外光刻
材料科学
堆积
极端紫外线
平版印刷术
纳米技术
紫外线
光刻
X射线光电子能谱
光刻胶
纳米团簇
路易斯酸
抵抗
光电子学
双层
化学稳定性
分子
锡
聚合物
钨
化学工程
纳米光刻
耐化学性
氟
生物分子
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期刊：Advanced Functional Materials 作者：Yejin Ku; Gayoung Kim; Minseung Kim; Hyungju Ahn; Jin‐Kyun Lee; et al 出版日期：2025-11-26 |
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