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 Photolithography in the vacuum ultraviolet (172 nm) with sub-400 nm resolution: photoablative patterning of nanostructures and optical components in bulk polymers and thin films on semiconductors |
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期刊：Nanoscale 作者：Andrey E. Mironov; Jinhong Kim; Yin Huang; Austin W. Steinforth; Dane J. Sievers; J. Gary Eden 出版日期：2020 |
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