| 标题 |
EUVL practical mask structure with light shield area for 32nm half pitch and beyond |
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10.1117/12.801576
doi
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期刊:SPIE Proceedings 作者:Takashi Kamo; Hajime Aoyama; Toshihiko Tanaka; Osamu Suga; Tsukasa Abe; et al 出版日期:2008-10-09 |
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(2025-6-4)