| 标题 |
I-line photolithographic metalenses enabled by distributed optical proximity correction with a deep-learning model |
| 网址 | |
| DOI |
10.1364/oe.456469
doi
|
| 其它 |
期刊:Optics Express 作者:Wei-Ping Liao; Hsueh-Li Liu; Yu-Fan Lin; Sheng-Siang Su; Yuteng Chen; et al 出版日期:2022-05-24 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)