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通过原子层沉积使用 HfO 2 薄膜进行硅表面钝化
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DOI
10.1016/j.apsusc.2015.09.020 doi
求助人
顺利静枫 在 2026-03-02 20:12:58 发布自江苏,悬赏 10 积分
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