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Thermal management of through-silicon vias and back-end-of-line layers in 3D ICs: A comprehensive review 3D IC中硅通孔和后端层的热管理:综合综述
相关领域
生产线后端
三维集成电路
硅
电子设备和系统的热管理
材料科学
通过硅通孔
直线(几何图形)
光电子学
纳米技术
工程物理
集成电路
工程类
机械工程
图层(电子)
几何学
数学
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期刊:Microelectronic Engineering 作者:Hengyou Zhang; Miao Tian; Xiaokun Gu 出版日期:2025-02-20 |
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