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 High-power laser interference lithography process on photoresist: Effect of laser fluence and polarisation 光刻胶上的高功率激光干涉光刻工艺：激光注量和偏振的影响
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期刊：Applied Surface Science 作者：Miguel Ellman; Ainara Rodríguez; N. Pérez; Mikel Echeverría; Y.K. Verevkin; et al 出版日期：2008-08-13 |
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