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标题
Significant improvement of ferroelectricity and reliability in Hf0.5Zr0.5O2 films by inserting an ultrathin Al2O3 buffer layer
超薄Al2O3缓冲层显著改善Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜的铁电性和可靠性
相关领域
铁电性 材料科学 电介质 极化（电化学） 光电子学 电容器 原子层沉积 薄膜 电极 图层（电子） 纳米技术 电压 电气工程 化学 工程类 物理化学
网址
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2020.148737
DOI
10.1016/j.apsusc.2020.148737 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：Haiyan Chen; Lin Tang; Leyang Liu; Yonghong Chen; Hang Luo; et al
出版日期：2020-12-11
求助人
沈家宁 在 2025-05-25 23:45:07 发布自福建，悬赏 10 积分
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