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Robust and Radiation-Resistant Hofmann-Type Metal-Organic Frameworks for Record Xenon/Krypton Separation |
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期刊:J Am Chem Soc 作者:Pei J, Gu XW, Liang CC, Chen B, Li B, Qian G 出版日期:2022-02-09 |
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(2025-6-4)