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标题
Selective plasma-enhanced atomic layer etching of ZrO2 over TiN for DRAM capacitor recess etching
网址
https://doi.org/10.1117/12.3090682
DOI
10.1117/12.3090682 doi
其它 期刊：Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XV
作者：Hyeongwu Lee; Heeyeop Chae; Efrain Altamirano-Sánchez
出版日期：2026
求助人
开心的万天 在 2026-05-11 23:32:48 发布自福建，悬赏 30 积分
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    开心的万天 开心的万天 Lv4 求助人 发起了本次求助

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