Wet etch clean-up of plasma damage for 1.68 kV breakdown in NiO/β-Ga2O3 chlorine-etched PN diodes

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标题	Wet etch clean-up of plasma damage for 1.68 kV breakdown in NiO/β-Ga2O3 chlorine-etched PN diodes
网址	https://doi.org/10.1116/6.0004289
DOI	10.1116/6.0004289 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Audrey Rose Gutierrez; Joseph Spencer; Alan G. Jacobs; Yuan Qin; Jenifer R. Hajzus; et al 出版日期：2025-05-01
求助人	JieFenceence 在 2026-10-20 11:26:07 发布自天津，悬赏 10 积分
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