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Study of the interfaces in resistive switching NiO thin films deposited by both ALD and e-beam coupled with different electrodes (Si, Ni, Pt, W, TiN)
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网址
http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2008.09.039
DOI
10.1016/j.mee.2008.09.039 doi
其它 期刊：Microelectronic Engineering
作者：A. Lamperti; S. Spiga; H.L. Lu; C. Wiemer; M. Perego; et al
出版日期：2008-12-01
求助人
Chen_Sam 在 2026-09-11 08:13:01 发布自广东，悬赏 10 积分
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