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 Microkinetic based growth and property modeling of plasma enhanced atomic layer deposition silicon nitride thin film 相关领域
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Toshihiko Iwao; Tsung-Hsuan Yang; Gyeong S. Hwang; Peter L. G. Ventzek 出版日期：2023-05-01 |
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