| 标题 |
 Microkinetic based growth and property modeling of plasma enhanced atomic layer deposition silicon nitride thin film 相关领域
二氯硅烷
氮化硅
材料科学
硅
基质（水族馆）
薄膜
原子层沉积
单层
氮化物
等离子体
图层（电子）
沉积（地质）
化学工程
分析化学（期刊）
纳米技术
光电子学
化学
有机化学
沉积物
量子力学
古生物学
工程类
地质学
物理
海洋学
生物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Toshihiko Iwao; Tsung-Hsuan Yang; Gyeong S. Hwang; Peter L. G. Ventzek 出版日期：2023-05-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
归尘
AllRightReserved
仰望喀纳斯的星空
GingerF
无极微光
HFH
1111
房延彤
iNk
cdercder
Ethan
YifanWang
Belikov
Nexus
帅气碧萱
贪玩的秋柔
挖掘机
Criminology34
dl
做实验的猫
皖公网安备34019202002308
