标题 |
Plasma-enhanced atomic layer deposition of aluminum-indium oxide thin films and associated device applications
等离子体增强原子层沉积铝铟氧化物薄膜及其器件应用
相关领域
铟
薄膜
材料科学
原子层沉积
氧化物
氧化铟锡
图层(电子)
薄膜晶体管
无机化学
纳米技术
光电子学
化学
冶金
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Journal of vacuum science & technology 作者:Won-Bum Lee; Hyun‐Jun Jeong; Hye‐Mi Kim; Jin‐Seong Park 出版日期:2022-04-07 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|