| 标题 |
 EPE budget analysis and margin co-optimization on the multiple critical on-device features in a single image for yield enhancement 相关领域
边距（机器学习）
产量（工程）
计算机科学
图像（数学）
人工智能
材料科学
机器学习
复合材料
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| DOI |
10.1117/12.2585369
doi
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| 其它 |
期刊：Metrology, Inspection, and Process Control for Semiconductor Manufacturing XXXV 作者：Yaniv Abramovitz; Boo-Hyun Ham; Sangho Jo; Byoung‐Hoon Kim; Jongsu Kim; et al 出版日期：2021-02-19 |
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