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 Design and Comparative Analysis of Gate Stack Silicon Doped HfO2 Ferroelectric Vertical TFET 栅叠层硅掺杂HfO2铁电垂直TFET的设计与对比分析
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期刊：Silicon 作者：Rupali Gupta; Saima Beg; Shailendra Singh 出版日期：2022-02-12 |
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HappyFlight9898
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