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In-situ chamber clean for chromium etch application 用于铬蚀刻应用的原位腔室清洁
相关领域
光掩模
蚀刻(微加工)
材料科学
干法蚀刻
薄脆饼
等离子体刻蚀
光刻
制作
光电子学
纳米技术
抵抗
替代医学
图层(电子)
病理
医学
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| 其它 |
期刊:Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者:Zhigang Mao; Xiaoyi Chen; David Knick; Michael Grimbergen; Madhavi Chandrahood; et al 出版日期:2008-05-13 |
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