Surface passivation of HfO2 by silane coupling agents for ultra‑high selectivity etching of Si3N4/SiO2/HfO2 stacks in phosphoric acid

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标题	Surface passivation of HfO2 by silane coupling agents for ultra‑high selectivity etching of Si3N4/SiO2/HfO2 stacks in phosphoric acid
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.jallcom.2026.190142
DOI	10.1016/j.jallcom.2026.190142 doi
其它	期刊：Journal of Alloys and Compounds 作者：Mingzhu Yan; Lianlian Li; Kun Yang; Jiaxin Yao; Hang Zhang; et al 出版日期：2026-09-01
求助人	个性怡在 2026-11-01 23:46:47 发布自北京，悬赏 10 积分
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