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标题
Plasma atomic layer etching for titanium nitride at low temperatures
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DOI
10.1116/6.0001602 doi
其它 期刊:Journal of vacuum science and technology
作者:Dahee Shim; Jihyun Kim; Yong‐Jae Kim; Heeyeop Chae
出版日期:2022-02-25
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Atlantis 在 2026-10-30 13:44:43 发布自上海,悬赏 10 积分
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