| 标题 |
  Quantitative characterization of absorber and phase defects on EUV reticles using coherent diffraction imaging 相关领域
十字线
极紫外光刻
光掩模
光学
计量学
相干衍射成像
材料科学
相（物质）
衍射
样品（材料）
极端紫外线
相位恢复
表征（材料科学）
光电子学
计算机科学
物理
抵抗
薄脆饼
纳米技术
激光器
傅里叶变换
图层（电子）
量子力学
热力学
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| DOI |
10.1117/1.JMM.19.1.014002
doi
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| 其它 |
期刊：Journal of Micro-nanolithography Mems and Moems 作者：Iacopo Mochi; Sara Fernández; Ricarda Nebling; Uldis Locāns; Rajeev Rajendran; et al 出版日期：2020-01-30 |
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