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标题
300 mm CMOS-compatible fabrication of Ru2Si3 sub-50 nm thin films and characterization
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网址
https://doi.org/10.1063/5.0080245
AI链接 scitation.org fraunhofer.dedoi.org
DOI
10.1063/5.0080245 doi
其它 期刊：Applied Physics Letters
作者：Johannes Hertel; Caroline Schwinge; Lukas Gerlich; Maik Wagner‐Reetz
出版日期：2022-05-30
求助人
Mie 在 2026-01-12 18:31:34 发布自贵州，悬赏 10 积分
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