| 标题 |
 Design and Analysis of Gate Stack Silicon-on-Insulator Nanosheet FET for Low Power Applications 用于低功耗应用的栅极堆叠绝缘体上硅纳米片场效应晶体管的设计与分析
相关领域
材料科学
纳米片
晶体管
光电子学
排水诱导屏障降低
绝缘体上的硅
量子隧道
兴奋剂
泄漏（经济）
阈下传导
CMOS芯片
场效应晶体管
薄脆饼
电气工程
半导体
硅
工程物理
纳米技术
电压
工程类
宏观经济学
经济
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Silicon 作者：R. Yuvaraj; Anand Karuppannan; Asisa Kumar Panigrahy; Raghunandan Swain 出版日期：2022-09-27 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
无极微光
DW
Nole
xing_xing
秋风
cdercder
学术文献互助
我能私信骂你吗
渡人舟
Lo
OK
Enigma_GEB
aaaa
修仙中
初景
donk
aajhajkahna
Criminology34
牧青
科研狗
皖公网安备34019202002308
