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 Comparative Study of Ar- and He-rich SF6 + Ar + He Plasmas for Dry Etching Applications: Diagnostics and Kinetic Modeling 相关领域
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期刊：Vacuum 作者：Andrey V. Miakonkikh; Vitaly Kuzmenko; Alexander Efremov; K. V. Rudenko 出版日期：2025-08-01 |
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