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Memory Devices with HfO2 Charge-Trapping and TiO2 Channel Layers: Fabrication via Remote and Direct Plasma Atomic Layer Deposition and Comparative Performance Evaluation
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网址
https://doi.org/10.3390/ma18050948
AI链接 doi.org nih.gov nih.govdoi.org
DOI
10.3390/ma18050948 doi
其它 期刊：Materials
作者：Inkook Hwang; Jiwon Kim; Joung‐Ho Lee; Yeonwoong Jung; Chang‐Bun Yoon
出版日期：2025-02-21
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YF 在 2026-01-13 15:52:30 发布自广西，悬赏 10 积分
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