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 Facile Ultraviolet Irradiation-Induced Enhancement in the Dielectric and energy storage Properties of Poly(trifluoroethyl methacrylate)/Poly(vinylidene fluoride) Films 聚（甲基丙烯酸三氟乙酯）/聚（偏二氟乙烯）薄膜介电和储能性能的易紫外辐射增强
相关领域
材料科学
甲基丙烯酸酯
电负性
紫外线
辐照
电介质
介电强度
偶极子
极化（电化学）
储能
单体
泄漏（经济）
掺杂剂
侧链
空间电荷
氟
化学工程
SILC公司
带隙
电流密度
介电损耗
复合材料
电荷密度
分析化学（期刊）
光电子学
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期刊：Materials today communications 作者：Haiyang Mao; Hongwei Lu; Shijia Yang; Weitao Su; Yufei Li 出版日期：2025-10-01 |
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