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NF3 plasma-enhanced isotropic atomic layer etching of amorphous and crystalline hafnium oxide films |
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A 作者:Gyejun Cho; Jehwan Hong; Hye-Lee Kim; Byungchul Cho; Changkyu Lee; et al 出版日期:2026-01-06 |
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(2025-6-4)