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标题
P‐2: Nitrogen Behaviors in PEALD‐Grown SiO 2 Films Using N 2 O Plasma Reactant and Its Application in ALD‐IZO TFTs
网址
http://dx.doi.org/10.1002/sdtp.15677
DOI
10.1002/sdtp.15677 doi
其它 期刊：SID Symposium Digest of Technical Papers
作者：Dong-Gyu Kim; Kwang Su Yoo; Hye-Mi Kim; Jin-Seong Park
出版日期：2022-06-01
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mingfei 在 2026-09-23 18:20:32 发布自上海，悬赏 10 积分
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