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 Latest ArF light source with speckle reduction technology for immersion lithography improving chip yield 采用斑点减少技术的最新ArF光源，用于沉浸式印刷，提高芯片产量
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期刊： 作者：Hirotaka Miyamoto; Takamitsu Komaki; Toshihiro Ohga; Taku Yamazaki; Tsukasa Hori; et al 出版日期：2021-02-19 |
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