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标题
Recent progress in source development for lithography at 6.x nm
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DOI
10.1088/0031-8949/2013/t156/014105 doi
其它 期刊:Physica Scripta
作者:Gerry O'Sullivan; Thomas Cummins; Padraig Dunne; Akira Endo; Paddy Hayden; et al
出版日期:2013-09-24
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溜溜 在 2026-09-02 16:50:09 发布自广东,悬赏 10 积分
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