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 Growth studies and characterization of silicon nitride thin films deposited by alternating exposures to Si2Cl6 and NH3 Si2Cl6和NH3交替沉积氮化硅薄膜的生长研究与表征
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期刊：Thin Solid Films 作者：Kwangchol Park; Won-Deok Yun; Byoungjun Choi; Heon-Do Kim; Won‐Jun Lee; et al 出版日期：2009-02-05 |
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