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 Necessity of resist model in source mask optimization for negative tone development process 负调显影过程源掩模优化中抗蚀剂模型的必要性
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期刊：Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS 作者：Lijun Zhao; Lisong Dong; Wenhui Chen; Tianchun Ye; Liwan Yue; et al 出版日期：2017-09-13 |
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