Functionalization of Si3N4 with an aldehyde inhibitor for area selective deposition of HfO2 and SiO2

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标题	Functionalization of Si3N4 with an aldehyde inhibitor for area selective deposition of HfO2 and SiO2
网址	https://doi.org/10.1039/D5TC01969A
DOI	10.1039/D5TC01969A doi
其它	期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Byungchan Lee; Seungwon Shim; Ngoc Le Trinh; Aravind H. Patil; Chi Thang Nguyen; et al 出版日期：2025
求助人	ADChem_JH 在 2026-04-01 22:49:48 发布自安徽，悬赏 10 积分
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