Kinetics and Mechanisms of Reactive-Ion Etching of Si and SiO2 in a Plasma of a Mixture of HBr + O2

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标题	Kinetics and Mechanisms of Reactive-Ion Etching of Si and SiO2 in a Plasma of a Mixture of HBr + O2
网址	https://doi.org/10.1134/s1063739720060037
DOI	10.1134/s1063739720060037 doi
其它	期刊：Russian Microelectronics 作者：Alexander Efremov; В. Б. Бетелин; Kwang‐Ho Kwon 出版日期：2020-11-01
求助人	JZAUA 在 2026-08-24 15:56:46 发布自上海，悬赏 10 积分
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