| 标题 |
 Characteristics of TiN thin films grown by ALD using TiCl4 and NH3 相关领域
锡
原子层沉积
材料科学
氮化钛
薄脆饼
薄膜
沉积（地质）
氮气
化学气相沉积
电阻率和电导率
氮化物
硅
图层（电子）
化学工程
分析化学（期刊）
纳米技术
冶金
化学
有机化学
古生物学
工程类
电气工程
沉积物
生物
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| 其它 | 作者：C. H. Ahn, S. G. Cho, H. J. Lee, K. H. Park & S. H. Jeong |
| 求助人 | |
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(2025-6-4)
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